Enhancement of near-UV and visible emissions using pulsed low-pressure Hg-Ar discharge

被引：0
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作者：
Loo, KH [1 ]
Moss, GJ
Stone, DA
Tozer, RC
Jinno, M
Devonshire, R
机构：
[1] Univ Sheffield, Dept Elect & Elect Engn, Sheffield S1 3JD, S Yorkshire, England
[2] Univ Sheffield, Dept Chem, High Temp Sci Labs, Sheffield S3 7HF, S Yorkshire, England
来源：
LIGHT SOURCES 2004 | 2004年 / 182期
关键词：
D O I：
暂无
中图分类号：
O43 [光学];
学科分类号：
070207 ; 0803 ;
摘要：
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页数：2
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