Photochemical processes in photoresist layers based on cresol-formaldehyde resins and ortho-naphthoquinonediazides in the presence of donor additives

被引：0

作者：

Grishina, AD ^{[1
]}

Khazova, GO ^{[1
]}

Tedoradze, MG ^{[1
]}

Vannikov, AV ^{[1
]}

Koltsov, YI ^{[1
]}

机构：

[1] NAUCHNO ISSLEDOVATELSKII INST MATERIALOVEDENIYA A,MOSCOW,RUSSIA

来源：

ZHURNAL NAUCHNOI I PRIKLADNOI FOTOGRAFII | 1996年 / 41卷 / 05期

关键词：

D O I：

暂无

中图分类号：

TB8 [摄影技术];

学科分类号：

0804 ;

摘要：

引用

页码：6 / 14

页数：9