Retention stereochemistry of thermal 1,3-silyl migration in allylsilanes

被引:11
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作者
Zhang, LC
Kabuto, C
Kira, M
机构
[1] Inst Phys & Chem Res, RIKEN, Photodynam Res Ctr, Aoba Ku, Sendai, Miyagi 9800952, Japan
[2] Tohoku Univ, Grad Sch Sci, Dept Chem, Aoba Ku, Sendai, Miyagi 9808578, Japan
关键词
D O I
10.1021/ja983677j
中图分类号
O6 [化学];
学科分类号
0703 ;
摘要
[No abstract available]
引用
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页码:2925 / 2926
页数:2
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