沉积氧压对Bi1.5ZnNb1.5O7薄膜的结构和介电特性的影响

被引：2
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作者：
张效华
辛凤
胡跃辉
杨丰
陈义川
机构：
[1] 景德镇陶瓷学院机械与电子工程学院
来源：
人工晶体学报 | 2012年 / 02期
关键词：
Bi1.5ZnNb1.5O7薄膜; 脉冲激光沉积; 微结构; 介电性能;
D O I：
10.16553/j.cnki.issn1000-985x.2012.02.042
中图分类号：
TB383.2 [];
学科分类号：
摘要：
采用固相反应法合成具有焦绿石立方结构的Bi1.5ZnNb1.5O7(BZN)陶瓷靶材,采用脉冲激光沉积法在Pt/SiO2/Si(100)基片上制备立方BZN薄膜。研究了沉积氧压的变化对薄膜的结晶性能,微观形貌以及介电性能的影响。结果表明:沉积的BZN薄膜都呈现出立方焦绿石单相结构,但是薄膜的取向随氧压变化而变化。当沉积氧压为10 Pa时,薄膜的(222)晶面拥有最强的择优取向。随着氧压的升高,BZN薄膜的介电常数明显降低。在10 Pa氧压下沉积的BZN薄膜展示出介电可调特性为5%(500 kV/cm)。
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页码：448 / 451
页数：4
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