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揭露65nm工艺的秘密
被引:0
|
作者
:
exiang
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0
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h-index:
0
机构:
四川
exiang
机构
:
[1]
四川
来源
:
大众硬件
|
2005年
/ 09期
关键词
:
线长;
摩尔定律;
nm;
相移掩模;
应变硅;
工艺制程;
晶体管数目;
光刻机;
D O I
:
暂无
中图分类号
:
TN305 [半导体器件制造工艺及设备];
学科分类号
:
1401 ;
摘要
:
<正>1965年4月,当时还是仙童公司电子工程师的摩尔在《电子学》杂志上发表文章对半导体产业做出预言——半导体芯片上集成的晶体管数量将每年翻一番。1975年他对此预言做出修正,芯片上集成的晶体管和电阻数量将每两年翻一番。而就在该理论提出时,集成电路才问世6年。而摩尔所在的实验室也只能将50只晶体管和电阻集成在一个芯片上。摩尔当时的预测在
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页数:6
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