磁控溅射Al-Fe-Sn薄膜的电输运性能（英文）

被引：0

作者：

赵冠楠

郑增

耿开杰

张晴

张永

严彪

机构：

[1] 同济大学

来源：

稀有金属材料与工程 | 2016年 / 45卷 / 05期

关键词：

电阻率; 铝合金薄膜; 电输运;

D O I：

暂无

中图分类号：

TG146.21 []; TB383.2 [];

学科分类号：

摘要：

在电子工业中,为了制备低电阻率的Al合金薄膜,需要对薄膜进行退火。虽然材料的电阻率与其电输运性能密切相关,然而到目前为止,对于铝合金薄膜的电输运性能研究甚少。本实验首先利用TEM对于磁控溅射铝合金薄膜的结构,特别是对其与基底界面处的结构进行了表征。在此基础上,利用霍尔效应测试了解界面状态的变化对于霍尔载流子浓度及迁移率的影响。结果表明,在退火过程中,薄膜与基底之间通过扩散形成紧密接触,从而使得合金薄膜同时具有较高的载流子浓度以及载流子迁移率。最后,利用一个新提出的能带模型,解释所观察到的界面变化对于电导率的影响。

引用

页码：1142 / 1146

页数：5

共 9 条

[1] Experimental studies of solid state surface wetting of tin (Sn) on aluminium (Al)[J] . C. Eisenmenger-Sittner,B. Schwarz,C. Tomastik,P.B. Barna,A. Kovacs.Applied Surface Science . 2005 (15)
[2] Surface and electrical-transport studies of Ag/Al bilayer-structures grown by molecular beam epitaxy[J] . A.K. Debnath,Niraj Joshi,K.P. Muthe,J.C. Vyas,D.K. Aswal,S.K. Gupta,J.V. Yakhmi.Applied Surface Science . 2004 (1)
[3] Solid state diffusion of Sn in polycyrstalline Al films[J] . C. Eisenmenger-Sittner,H. Bangert,C. Tomastik,P.B. Barna,A. Kovács,F. Misiak.Thin Solid Films . 2003 (1)
[4] In situ X-ray photoelectron spectroscopy of Ag/Al bilayers grown by molecular beam epitaxy[J] . D.K. Aswal,K.P. Muthe,Niraj Joshi,A.K. Debnath,S.K. Gupta,J.V. Yakhmi.Journal of Crystal Growth . 2003 (1)
[5] Mo-capped Al–Nd alloy for both gate and data bus lines of liquid crystal displays[J] . Toshiaki Arai,Atsuya Makita,Yasunobu Hiromasu,Hiroshi Takatsuji.Thin Solid Films . 2001 (1)
[6] Stranski–Krastanov growth of Sn on a polycrystalline Al film surface initiated by the wetting of Al by Sn[J] . Surface Science . 2001 (1)
[7] Microstructure of thermal hillocks on blanket Al thin films[J] . Deok-kee Kim,Birgit Heiland,William D Nix,Eduard Arzt,Michael D Deal,James D Plummer.Thin Solid Films . 2000 (1)
[8] Effect of aluminium oxide caps on hillock formation in aluminium alloy films[J] . Eiji Iwamura,Katsutoshi Takagi,Takashi Ohnishi.Thin Solid Films . 1999 (1)
[9] AlSm and AlDy alloy thin films with low resistivity and high thermal stability for microelectronic conductor lines[J] . Shinji Takayama,Naganori Tsutsui.Thin Solid Films . 1996 (1)

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