用于先进BiCMOS技术的超高速SiGe NPN结构

被引:0
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作者
M.Racanelli
K.Schuegraf
机构
[1] Conexant系统公司硅射频平台技术部
关键词
SiGe NPN; 基极; BiCMOS; 发射极;
D O I
暂无
中图分类号
TN929.11 [光纤通信];
学科分类号
摘要
<正>引言光通信系统中数据传输率的持续提升要求能处理接近 200GHzFt/Fmax的更高效能工艺技术,虽然似乎可以通过将目前SiGe工艺技术的垂直成形处理方法加以扩展以达到200GHz的最高Ft值,但是要同时得到200GHz的Fmax本文就不是件简单的工作。
引用
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