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用于先进BiCMOS技术的超高速SiGe NPN结构
被引:0
|
作者
:
M.Racanelli
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机构:
Conexant系统公司硅射频平台技术部
M.Racanelli
K.Schuegraf
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机构:
Conexant系统公司硅射频平台技术部
K.Schuegraf
机构
:
[1]
Conexant系统公司硅射频平台技术部
来源
:
电子产品世界
|
2002年
/ 07期
关键词
:
SiGe NPN;
基极;
BiCMOS;
发射极;
D O I
:
暂无
中图分类号
:
TN929.11 [光纤通信];
学科分类号
:
摘要
:
<正>引言光通信系统中数据传输率的持续提升要求能处理接近 200GHzFt/Fmax的更高效能工艺技术,虽然似乎可以通过将目前SiGe工艺技术的垂直成形处理方法加以扩展以达到200GHz的最高Ft值,但是要同时得到200GHz的Fmax本文就不是件简单的工作。
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