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SiCw/6061Al复合材料的界面研究
被引:0
|
作者
:
吴昆
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机构:
哈尔滨工业大学
吴昆
耿林
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机构:
哈尔滨工业大学
耿林
刘庆
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机构:
哈尔滨工业大学
刘庆
姚忠凯
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机构:
哈尔滨工业大学
姚忠凯
机构
:
[1]
哈尔滨工业大学
来源
:
金属科学与工艺
|
1991年
/ 02期
关键词
:
碳化硅;
晶须;
复合材料;
界面;
D O I
:
暂无
中图分类号
:
学科分类号
:
摘要
:
本研究用CM12型透射电镜配备的PV9100X射线能谱,对SiCw/6061Al复合材料中碳化硅晶须和相邻铝基体之间界而区域的铝、硅二元素的相对含量进行了测试;并利用JCXA733电子探针设备,测试了由复合材料溶下的碳化硅晶须中铝、硅二元素的相对含量。测试结果表明:铝元素没有向碳化硅晶须中扩散。虽然在碳化硅晶须表层大约50nm范围内存在铝元素的浓度梯度变化,但是否由扩散所致,尚需进一步探讨。
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页数:4
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Arsenault R J. Scripta Materialia . 1984
[2]
Nutt S R. J. Journal of the American Ceramic Society . 1984
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