530~650MHz 20W CW Si-VDMOS场效应晶体管

被引:4
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作者
刘洪军 [1 ]
傅义珠 [1 ]
李相光 [1 ]
机构
[1] 南京电子器件研究所
关键词
连续波; 硅-垂直双扩散金属氧化物场效应晶体管; 多层复合栅;
D O I
暂无
中图分类号
TN386.1 [金属-氧化物-半导体(MOS)器件];
学科分类号
0805 ; 080501 ; 080502 ; 080903 ;
摘要
报道了530;50MHz 20W连续波Si-VDMOS场效应晶体管的研制结果。该器件采用polySi/WN/Au的多层复合栅技术降低栅串联电阻,采用栅下场氧化垫高技术降低反馈电容,采用穿通型硅外延材料优化导通电阻提高器件工作效率,全离子注入自对准工艺等技术,在上述频带内,连续波,28V工作电压下,静态电流50mA,该器件输出功率达20W,效率达49%,增益大于7.5dB。
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