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Si(111)-(3×3)R30°-Ga表面原子结构
被引:0
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作者
:
邓丙成
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机构:
华南建设学院西院基础部!广州
邓丙成
徐耕
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华南建设学院西院基础部!广州
徐耕
陈文华
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华南建设学院西院基础部!广州
陈文华
何永健
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华南建设学院西院基础部!广州
何永健
谢茂海
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华南建设学院西院基础部!广州
谢茂海
唐叔贤
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机构:
华南建设学院西院基础部!广州
唐叔贤
机构
:
[1]
华南建设学院西院基础部!广州
[2]
中山大学物理系!广州
[3]
香港大学物理系!香港
来源
:
半导体学报
|
2001年
/ 04期
关键词
:
Si;
表面;
原子结构;
D O I
:
暂无
中图分类号
:
TN301 [基础理论];
学科分类号
:
070205 ;
摘要
:
利用自动张量低能电子衍射 (ATL EED)定量地研究 Si(111) - (3× 3) R30°- Ga重构表面的原子结构 .证实了 Ga原子吸附在 T4位即第二层 Si原子所对的空位上 ,同时给出了表面最顶层 7个原子层的详细坐标 .可靠性因子 RVHT=0 .143表明理论计算和实验符合得非常好 .
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页码:427 / 430
页数:4
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