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UV-LIGA制作超高微细阵列电极技术
被引：12
|作者：
胡洋洋
朱荻
李寒松
曲宁松
曾永彬
明平美
机构：
[1] 南京航空航天大学江苏省精密与微细制造技术重点实验室
来源：
基金：
中国博士后科学基金;
关键词：
UV-LIGA;
SU-8胶;
电解;
去胶;
微细阵列电极;
D O I：
暂无
中图分类号：
TN05 [制造工艺及设备];
学科分类号：
摘要：
采用UV-LIGA技术制作了超高金属微细阵列电极,并利用电解置桩的方法辅助去除SU-8胶。通过单次涂胶和提高前烘温度、降低后烘温度的方法制作了厚度达1mm的SU-8胶结构;采取反接电极法在金属基底上电解得到微坑,增强电铸金属电极与金属基底的结合力,保证去胶后电铸金属的完整性。选取优化的工艺参数:单次注射式涂胶,前烘110℃/12h,适量曝光剂量,分步后烘50℃/5min、70℃/10min、90℃/30min,反接电极电解10V/15min等,获得了高900μm、线宽300μm的金属微细阵列电极结构。试验表明,UV-LIGA技术是一种高效、经济的制造超高微细阵列电极的有效手段。
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页码：670 / 676
页数：7
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