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CO2激光诱导SF6—UF6—CO体系的光敏反应
被引:0
|
作者
:
侯惠奇
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机构:
复旦大学原子核科学系
侯惠奇
秦启宗
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复旦大学原子核科学系
秦启宗
何志强
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复旦大学原子核科学系
何志强
周平
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机构:
复旦大学原子核科学系
周平
机构
:
[1]
复旦大学原子核科学系
来源
:
科学通报
|
1984年
/ 14期
关键词
:
光敏反应;
红外;
SF6;
UF6;
激光诱导;
D O I
:
暂无
中图分类号
:
学科分类号
:
摘要
:
<正> 脉冲CO2激光激发SP6引起UF6光敏解离近来已有报道。我们曾研究以H2为清扫剂的UF6红外光敏反应,但用一氧化碳作为F原子清扫剂的详细研究尚未见报道。本文着重研究TEA CO2激光诱导SF6—UF6—CO体系的光敏反应,并测定了UF6解离率与激光能量密度、频率和CO分压之间的关系。
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页码:858 / 860
页数:3
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