混晶β-(Al,Ga)2O3的禁带调节(英文)

被引:4
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作者
肖海林 [1 ,2 ]
邵刚勤 [3 ]
赛青林 [1 ]
夏长泰 [1 ]
周圣明 [1 ]
易学专 [1 ]
机构
[1] 中国科学院上海光学机械精密研究所强激光材料重点实验室
[2] 武汉理工大学材料复合新技术国家重点实验室
[3] 中国科学院大学
关键词
β-Ga2O3; Al3+; 禁带宽度; 半导体;
D O I
暂无
中图分类号
O782.6 [];
学科分类号
0702 ; 070205 ; 0703 ; 080501 ;
摘要
通过光学浮区法生长了不同浓度的β-(Al,Ga)O混晶。当Al掺杂浓度达到0.26的时候,晶体生长出现开裂现象。进行X射线衍射分析,结果表明所得β-(Al,Ga)O混晶保持了β-GaO的晶体结构,晶体没有出现其他杂质相,并且随着Al浓度的增加,晶格常数a、b、c减小,β角增大;核磁共振光谱显示Al的确进入了Ga的格位并且取代了Ga的四配位和六配位格位,两者的比例约为1:3。通过测试β-(Al,Ga)O混晶的透过光谱,得出β-(Al,Ga)O混晶的禁带调节范围为4.72~5.32 eV,扩大了β-GaO晶体在更短波段的光电子探测器方面的应用。
引用
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页码:1258 / 1262
页数:5
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