3300V高压4H-SiC结势垒肖特基二极管器件的研制

被引:2
|
作者
彭朝阳 [1 ]
白云 [1 ]
申华军 [1 ]
吴煜东 [2 ]
高云斌 [2 ]
刘新宇 [1 ]
机构
[1] 中国科学院微电子研究所
[2] 新型功率半导体器件国家重点实验室
关键词
击穿电压; 4H-SiC; 结势垒肖特基二极管;
D O I
10.13889/j.issn.2095-3631.2016.05.200
中图分类号
TN311.7 [];
学科分类号
0805 ; 080501 ; 080502 ; 080903 ;
摘要
为满足轨道交通电力牵引应用对高压SiC二极管器件的需求,对4H-SiC器件有源区采用了不同JBS栅条参数设计,并通过TCAD仿真对比分析了栅条参数对器件性能的影响;器件终端结构采用经过优化的35个场限环结构设计;最后采用Ti作为肖特基金属,制备获得的3 300 V/15 A 4H-SiC JBS器件势垒高度约为1.19 e V、击穿电压高于3 300 V。这是国内首次报道的3 300 V/15 A规格SiC JBS器件产品。通过实验测得:器件的特征导通电阻为7.6;9 mΩ·cm;;室温下,反向偏压达到3 300 V时,器件的漏电流仅为0.3μA,雪崩击穿电压达到3 800 V。
引用
收藏
页码:46 / 50
页数:5
相关论文
共 7 条
  • [1] Development of 10 kV 4H-SiC JBS diode with FGR termination[J]. 黄润华,陶永洪,曹鹏飞,汪玲,陈刚,柏松,栗瑞,李赟,赵志飞.Journal of Semiconductors. 2014(07)
  • [2] 4500V碳化硅肖特基二极管研究
    黄润华
    李理
    陶永洪
    刘奥
    陈刚
    李赟
    柏松
    栗锐
    杨立杰
    陈堂胜
    [J]. 固体电子学研究与进展, 2013, 33 (03) : 220 - 223
  • [3] SiC电力电子技术综述
    李宇柱
    [J]. 固体电子学研究与进展, 2011, 31 (03) : 213 - 217
  • [4] 高性能SiC整流二极管研究
    杨霏
    商庆杰
    李亚丽
    闫锐
    默江辉
    潘宏菽
    李佳
    刘波
    冯志红
    付兴昌
    何庆国
    蔡树军
    杨克武
    [J]. 微纳电子技术, 2010, 47 (07) : 394 - 396
  • [5] 基于结终端扩展的4H-SiC肖特基势垒二极管研制
    张发生
    李欣然
    [J]. 固体电子学研究与进展, 2010, 30 (01) : 146 - 149
  • [6] Mo/4H-SiC肖特基势垒二极管的研制
    张发生
    李欣然
    [J]. Journal of Semiconductors, 2007, (03) : 435 - 438
  • [7] 4H-SiC混合 PN/ Schottky二极管的研制(英文)
    张玉明
    张义门
    P.Alexandrov
    J.H.Zhao
    [J]. Journal of Semiconductors, 2001, (03) : 265 - 270