CX3NO(X=H,F,Cl)分子结构稳定性的Ab initio研究

被引：1

作者：

吴念慈

董南

蔡国强

俞庆森

机构：

[1] 杭州

[2] 浙江大学化学系杭州 310028

[3] 浙江大学化学系

[4] 杭州大学化学系

来源：

高等学校化学学报 | 1991年 / 10期

关键词：

从头计算; 分子结构; 分子稳定性;

D O I：

暂无

中图分类号：

学科分类号：

摘要：

CHNO(1)、CHFNO(2)、CHFNO(3)、CHClNO(4)、CHClNO(5)、CHCIFNO(6)、CFNO(7)和CClNO(8)是一类重要的光化学分子,它们稳定性差、寿命短,实验研究其结构及稳定性较困难,仅CHNO、CFNO和CClNO分子有理论研究,其余均未见报道,本文用ab initio方法在STO-3G水平上研究了上述分子结构稳定性,还用STO/

引用

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