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InSb1-xBix的液相外延
被引:0
|
作者
:
孙清
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机构:
上海科学技术大学
孙清
吴汶海
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上海科学技术大学
吴汶海
邹元爔
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上海科学技术大学
邹元爔
施惠英
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机构:
上海科学技术大学
施惠英
机构
:
[1]
上海科学技术大学
[2]
中国科学院上海冶金研究所
来源
:
应用科学学报
|
1984年
/ 03期
关键词
:
外延层;
外延生长;
衬底;
晶体生长;
基片;
InSb;
x)Bi_x;
Bi;
D O I
:
暂无
中图分类号
:
学科分类号
:
摘要
:
本文采用液相外延方法在InSb衬底上生长InSb1-xBix外延层,初步得出了外延生长条件包括温度,生长速率,熔池组分及衬底取向等与外延层x值的关系.此外,为了使x值达到所希望的适当范围,进行了InSb1-xBix电外延的初步试验.
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页码:189 / 194
页数:6
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