Investigation of profiles of implanted Ti ions in Cu single crystals exposed to high Irradiation doses and pulsed annealing

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作者
Duvanov, S. M.
Pogrebnyak, A. D.
Lavrent'ev, V. I.
Staiko, V. V.
机构
来源
Technical Physics Letters | / 22卷 / 01期
关键词
D O I
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