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Historical overview of semiconductor device reliability for telecommunication networks-field data, prediction model of device failure rate, and wear-out failure analyses at NTT
被引：0
|作者：
机构：
[1] Shiono, Noboru
[2] Arai, Eisuke
[3] Mutoh, Shin'Ichiro
来源：
|
1600年
/
Nippon Telegraph and Telephone Corp.卷
/
11期
关键词：
39;
D O I：
10.53829/ntr201305ra1
中图分类号：
学科分类号：
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