基于不同Cu-CHA催化剂方案的NH3-SCR性能及氨存储特性研究

被引：0

作者：

赖慧龙 ^{[1
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于飞 ^{[1
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杨冬霞 ^{[1
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马江丽 ^{[1
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殷雪梅 ^{[1
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常仕英 ^{[1
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机构：

[1] 贵研催化剂(东营)有限公司

[2] 昆明贵研催化剂有限责任公司技术研究院

来源：

无机盐工业 | 2024年 / 56卷 / 12期

关键词：

Cu-CHA型分子筛; 选择催化还原; NOx反应速率; 氨存储特性; 氨泄漏;

D O I：

暂无

中图分类号：

X734.2 [汽车]; TQ113.2 [合成氨工业]; O643.36 [催化剂];

学科分类号：

摘要：

为研究选择性催化还原（SCR）催化剂涂层硅铝比（SAR）、负载量、载体目数及氨/氮氧化物的物质的量比（ANR）对瞬态NOx转化率及氨存储特性的影响，采用离子交换法制备SAR为12、22的Cu-CHA涂层，结合140、160 g/L负载量，62、93个孔/cm2目数载体制备出4种涂覆式催化剂。通过NH3-TPD/H2-TPR表征材料发现，SAR为12的涂层具备更多活性Cu2+和更多酸性位点。采用固定床反应器和发动机台架分别研究SCR瞬态单点性能和工况排放。单点性能研究发现，各方案低温NOx反应速率由高到低的顺序依次为12-160-93、12-160-62、12-140-62、22-160-62,12-160-93方案下180、200、250℃单点平均反应速率分别可达2.24×10-6、4.37×10-6、1.48×10-5 mol/s；低SAR、高负载量、高载体目数方案都会提升单点瞬态NOx转化率，降低瞬态氨存储量，提升ANR可同时提升瞬态NOx转化率和瞬态氨存储量。各方案下工况NOx排放与低温单点性能一致，但是高负载方案增加了变化工况下NH3泄漏量，与单点NH3泄漏趋势相反。

引用

页码：159 / 166

页数：8

共 13 条

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