APPLICATION OF A CW CHEMICAL-LASER FOR REMOTE POLLUTION MONITORING AND PROCESS-CONTROL - MEASUREMENT OF THE HYDROGEN-FLUORIDE CONCENTRATION IN AN ALUMINUM PLANT

被引：15

作者：

TONNISSEN, A

WANNER, J

ROTHE, KW

WALTHER, H

机构：

[1] MAX PLANCK GESELL,PROJEKT GRP LASERFORSCH,D-8046 GARCHING,FED REP GER

[2] UNIV MUNICH,SEKT PHYS,D-8046 GARCHING,FED REP GER

来源：

APPLIED PHYSICS | 1979年 / 18卷 / 03期

关键词：

D O I：

10.1007/BF00885518

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

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页数：8