METASTABLE SURFACE-LAYER OF A SILICON-NITRIDE THIN-FILM GROWING BY PHOTO-CHEMICAL VAPOR-DEPOSITION

被引：10
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作者：
WADAYAMA, T
SUETAKA, W
机构：
来源：
SURFACE SCIENCE | 1989年 / 218卷 / 2-3期
关键词：
D O I：
10.1016/0039-6028(89)90150-7
中图分类号：
O64 [物理化学（理论化学）、化学物理学];
学科分类号：
070304 ; 081704 ;
摘要：
引用
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页码：L490 / L496
页数：7
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共 50 条
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