SPONTANEOUS THERMAL ETCHING OF SILICON BY CF3 RADICALS

被引:5
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作者
ROBERTSON, RM
GOLDEN, DM
ROSSI, MJ
机构
关键词
D O I
10.1116/1.575714
中图分类号
TB3 [工程材料学];
学科分类号
0805 ; 080502 ;
摘要
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页码:1407 / 1408
页数:2
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