SOLUTION PRECURSOR CHEMICAL VAPOR-DEPOSITION OF TITANIUM-OXIDE THIN-FILMS

被引：69
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作者：
LU, JP
WANG, JD
RAJ, R
机构：
[1] Department of Materials Science and Engineering, Cornell University, Ithaca, NY 14853, Bard Hall
来源：
THIN SOLID FILMS | 1991年 / 204卷 / 01期
基金：
美国国家科学基金会;
关键词：
D O I：
10.1016/0040-6090(91)90488-J
中图分类号：
T [工业技术];
学科分类号：
08 ;
摘要：
[No abstract available]
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页码：L13 / L17
页数：5
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共 50 条
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