DEPOSITION OF ULTRAFINE PARTICLES ON SEMICONDUCTORS FOR USE AS DRY-ETCHING MASKS - NUMERICAL-CALCULATION AND EXPERIMENTAL-VERIFICATION

被引：1

作者：

STRATMANN, F

WIEDENSOHLER, A

MAXIMOV, I

SAMUELSON, L

HANSSON, HC

FISSAN, HJ

机构：

[1] LUND UNIV,DEPT NUCL PHYS,S-22362 LUND,SWEDEN

[2] LUND UNIV,DEPT SOLID STATE PHYS,S-22100 LUND,SWEDEN

来源：

关键词：

QUANTUM DOTS; ULTRAFINE PARTICLES; PARTICLE DEPOSITION;

D O I：

10.1016/0021-8502(93)90025-5

中图分类号：

TQ [化学工业];

学科分类号：

0817 ;

摘要：

[No abstract available]

引用

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