EFFECTS OF DOPANTS ON TIN EMISSION IN A HELIUM MICROWAVE-INDUCED PLASMA

被引:15
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作者
BESNER, A [1 ]
HUBERT, J [1 ]
机构
[1] UNIV MONTREAL, DEPT CHIM, CP 6128, SUCC A, MONTREAL H3C 3J7, QUEBEC, CANADA
关键词
D O I
10.1039/ja9880300381
中图分类号
O65 [分析化学];
学科分类号
070302 ; 081704 ;
摘要
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页数:5
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