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DETERMINATION OF THE PARAMETERS OF DEEP LEVELS IN EPITAXIAL GAP-ZN-O FILMS BY FABRICATION OF DOUBLE SURFACE-BARRIER DIODES
被引:0
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作者
:
BULYARSKII, SV
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BULYARSKII, SV
ZHELYAPOV, GI
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NAGRADOVA, IA
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NEVSKII, OB
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CHICHULIN, AV
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CHICHULIN, AV
机构
:
来源
:
SOVIET PHYSICS SEMICONDUCTORS-USSR
|
1981年
/ 15卷
/ 08期
关键词
:
D O I
:
暂无
中图分类号
:
O469 [凝聚态物理学];
学科分类号
:
070205 ;
摘要
:
引用
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共 1 条
[1]
PARAMETERS OF A CENTER RESPONSIBLE FOR SLOW RELAXATION OF THE CAPACITANCE OF GAP-ZN-O LIGHT-EMITTING-DIODES
GUTKIN, AA
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GUTKIN, AA
DMITRIEVA, LA
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SIDOROV, VG
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SHLIKHTOV, SN
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SHLIKHTOV, SN
SOVIET PHYSICS SEMICONDUCTORS-USSR,
1983,
17
(11):
: 1305
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1307
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