DETERMINATION OF THE PARAMETERS OF DEEP LEVELS IN EPITAXIAL GAP-ZN-O FILMS BY FABRICATION OF DOUBLE SURFACE-BARRIER DIODES

被引:0
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作者
BULYARSKII, SV
ZHELYAPOV, GI
NAGRADOVA, IA
NEVSKII, OB
CHICHULIN, AV
机构
来源
SOVIET PHYSICS SEMICONDUCTORS-USSR | 1981年 / 15卷 / 08期
关键词
D O I
暂无
中图分类号
O469 [凝聚态物理学];
学科分类号
070205 ;
摘要
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共 1 条
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    SOVIET PHYSICS SEMICONDUCTORS-USSR, 1983, 17 (11): : 1305 - 1307