TIME-DEPENDENT ANNEALING OF RADIATION-INDUCED LEAKAGE CURRENTS IN MOS DEVICES

被引:24
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作者
TERRELL, JM [1 ]
OLDHAM, TR [1 ]
LELIS, AJ [1 ]
BENEDETTO, JM [1 ]
机构
[1] HARRY DIAMOND LABS,ADELPHI,MD 20783
关键词
D O I
10.1109/23.45426
中图分类号
TM [电工技术]; TN [电子技术、通信技术];
学科分类号
0808 ; 0809 ;
摘要
引用
收藏
页码:2205 / 2211
页数:7
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